PVD真空糖心VLOG破解免费就是糖心LOGO入口官网所說的物理氣相沉積的英文首字母縮寫（PVD）。是在真空條件下，利用蒸發或濺射等物理形式，把固體的材料轉化為原子、分子或者離子態的氣相物質然後使這些攜帶能量的蒸發粒子沉積到基體或零件的表麵，以形成膜層的膜製備方法。物理氣相沉積法主要有真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍。

真空蒸鍍：在真空中加熱使金屬、合金或化合物蒸發，然後凝結在基體表麵上的方法叫真空蒸鍍。

濺射鍍：濺射是利用高速正離子轟擊某一靶材（陰極），使靶材表麵原子以一定能量剝離，後在工件表麵沉積的過程。

離子鍍：借助於一種惰性氣體的輝光放電使被鍍金屬或合金蒸發離子化，並使這些荷能離子轟擊基體（工件）表麵，同時沉積在其表麵形成膜層。

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